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1nm光刻机迎突破

发布时间:2020-12-4     来源:世界先进制造技术论坛    点击率:1546

近日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)又送来一则好消息,该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。

据了解,先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时,ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划,预计相应的曝光设备全线准备好之后,会在2022年实现商业化。

然而,这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际,我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉,中芯国际于2018年自阿斯麦(ASML)手上购买了一台价值约1.2亿美元(折合约7.9亿元人民币)的EUV光刻机。

由于订购的设备一直没到手,中芯国际也在11月11日当天下调了一部分资本支出,将原本约457亿元的开支计划减少了55亿元至约402亿元。那么,之后中芯国际有没有可能彻底取消这笔买卖呢?恐怕还不好说,毕竟当前全球能造出EUV光刻机的仅有阿斯麦一家。

不过,中企也很有可能从韩国身上找到“转机”。据韩国媒体11月16日报道,韩国知识产权局(KIPO)发布的报告显示,经过长达10年的发展与钻研(2011-2020年),该国EUV光刻专利已经高达193项。而在此之前,全球光刻市场是美国企业Cymer公司“一家独大”。

要知道,当前韩国电子巨头三星正盼能从我国半导体市场“分得一块蛋糕”。据悉,11月12日当天,三星首次面向我国发布了芯片产品——Exynos1080,还宣布将向我国智能手机制造巨头vivo供应5nm高端芯片。

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